【19th.June】基于等離激元掩模板的分子取向光刻技術(shù)及其應(yīng)用
日期：2019-06-19
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題目：基于等離激元掩模板的分子取向光刻技術(shù)及其應(yīng)用
報告人：韋齊和教授? 美國肯特州立大學，液晶研究所
時間：2019年6月19日上午10點
地址：化學A樓528室報告廳
邀請人：江平開 教授
摘要：控制分子取向是制造所有液晶器件的關(guān)鍵步驟。傳統(tǒng)的液晶器件中，分子在基片表面的排列是均勻的。而很多新型的液晶器件，如Pancharatnam光學元件、刺激響應(yīng)性液晶高分子和可設(shè)計的液晶折紙，都依賴于空間上的非均勻分子取向。韋教授將介紹一種新的基于等離子激元掩模板的分子取向光刻技術(shù)。與傳統(tǒng)光刻的掩模板不通，等離子激元掩模板通過產(chǎn)生光偏振方向的空間調(diào)制，來誘導偶氮染料分子的空間取向。通過設(shè)計偏振方向的空間圖案 （即偶氮染料分子的取向圖案），可以實現(xiàn)任意需要的二維和三維液晶分子取向圖案。這種等離激元光刻技術(shù)有高分辯率和高產(chǎn)量的特點，使許多以前不可能的應(yīng)用成為可能。報告將介紹等離子激元掩模板的設(shè)計及該技術(shù)的一些新的應(yīng)用，包括調(diào)控活性物質(zhì)、平面光學元件以及刺激性響應(yīng)的微觀結(jié)構(gòu)等。
報告人簡介
韋齊和,?現(xiàn)任美國肯特州立大學液晶研究所教授。韋教授畢業(yè)于南京大學物理系，于1993年獲得了凝聚態(tài)物理學博士學位，導師為閔乃本院士。他對單通道擴散、等離子耦合、低對稱性膠體粒子的Brownian運動，光控分子取向等一系列問題做出了原創(chuàng)性的貢獻。他曾是德國洪堡學者和美國國家科學基金會CAREER獎的獲得者。他目前的研究領(lǐng)域包括液晶物理與材料工程、膠體材料、仿生學和納米制造。
